海关总署，信息产业部：
根据《国务院关于印发鼓励软件产业和集成电路产业发展若干政策的通知》（国发[2000]18号）的有关规定，经国务院批准，现对部分集成电路生产企业进口自用生产性原材料、消耗品的税收政策通知如下：
一、自2000年7月1日起，对在中国境内设立的投资额超过80亿元或集成电路线宽小于0.25微米的集成电路生产企业进口本通知附件所列自用生产性原材料、消耗品，免征关税和进口环节增值税。
二、由国家计委将符合上述条件的集成电路生产企业名单通知海关总署，海关对这些企业进口的生产性原材料、消耗品按照本通知附件所列商品目录办理免税手续，并作好后续监管工作。
三、商品目录原则上每年调整一次，由信息产业部会同国家计委、财政部、外经贸部、海关总署、税务总局等有关部门提出意见，报国务院审批。
四、附件所列商品目录包括税则号列和商品名称。海关审核该类进口商品免税时，如遇商品名称和税则归类与本文规定不一致时，以本文所列的商品名称为准。
五、国家计委对符合条件的集成电路生产企业名单、海关总署对享受该政策的年度实际进口数量应及时抄送财政部。
特此通知。
附件：部分集成电路生产企业免税进口自用生产性原材料、消耗品目录
附件： 部分集成电路生产企业免税进口自用生产性原材料、消耗品目录┌──┬──┬─────────────┬───┬────┬────────────────┬───────────────┐│序号│性质│ 类别 │序号 │税则号列│ 商品名称 │ 英文品名(企业参考) │├──┼──┼────┬────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 1│一、│树脂 │树脂 │1．01 │32149000│塑封胶 │RESIN/Molding ││ │ │ │ │ │ │ │Compaund/CHIP COAT │├──┤直接│ ├────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 2│原材│ │导电树脂 │1．02 │38249090│导电胶 │ │├──┤料 ├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 3│ │胶膜 │保护膜 │2．01 │39209090│ (硅片／光掩模、光罩)保护膜 │(UV/ICROSTAPE/PELLICLE ││ │ │ │ │ │ │ │GALSS) TAPE │├──┤ │ ├────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 4│ │ │硅片正面保护膜 │2．02 │39199090│贴膜／(UV感应及非感应背磨／晶背 │UV&NON—UV CURABLE ││ │ │ │ │ │ │研磨)胶带／胶膜 │BACKGRlNDING TAPE │├──┤ │ ├────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 5│ │ │ │2．03 │39199090│剥离膜／揭膜(塑料制成卷，宽度> │ ADHESIVE TAPE(plastic) ││ │ │ │ │ │ │20cm) │ │├──┤ │ ├────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 6│ │ │ │2．04 │39199099│剥离膜／揭膜(塑料制成卷，宽度< │ADHESIVE TAPE(plastic) ││ │ │ │ │ │ │=20cm) │ │├──┤ │ ├────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 7│ │ │剥离膜 │2．05 │40169990│剥离膜／揭膜(橡胶制) │ADHESIVE TAPE(rubber) │├──┤ ├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 8│ │基板 │基板 │3．01 │85340090│基板(未装器件的印刷电路板) │SUBSTRATE │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 9│ │ │ │3．02 │85425000│线路板 │PC BOARD │├──┤ ├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 10│ │支撑带 │ 支撑带 │4．01 │85425000│ 支撑带 │ TAB TAPE │├──┤ ├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 11│ │硅片 │ 硅片(晶片) │5．01 │38180019│ 硅片／调整片儿／晶元 │ WAFER/DIE │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 12│ │ │ │5．02 │38180019│辅助(挡控)硅片 │(Dummy) WAFER │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 13│ │ │ │5．03 │28046110│多晶硅(硅棒) │ │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 14│ │ │ │5．04 │38180090│硅圈，晶元 │Wafer │├──┤ ├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 15│ │特殊气体│高纯度单质气体 │ 6．01│28011000│ 氯气 │ CHLORINE │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 16│ │ │高纯度混合气体 │6．02 │28042100│氩气 │ARGON │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 17│ │ │高纯度刻蚀气体 │6．03 │28042900│氙气 │XENON │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 18│ │ │高纯度成膜气体 │6．04 │28042900│氦气 │HELIUM │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ │ │ │其它高纯度特殊气│6．05 │28043000│氮气 │NITROGEN ││ 19│ │ │体 │ │ │ │ │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 20│ │ │ │6．06 │28111990│溴化氢 │HYDROGEN BROMIDE │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 21│ │ │ │6．07 │28112100│二氧化碳 │CARBON DIOXIDE │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 22│ │ │ │ 6．08│28112900│一氧化碳 │CARBON MONOXIDE │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 23│ │ │ │ 6．09│28112900│一氧化二氮(笑气) │ NITROUS OXIDE │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 24│ │ │ │ 6．10│28510090│二氯(甲)硅烷 │ DICHLOROSILANE │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 25│ │ │ │ 6．11│28121049│三氯化硼 │ BORON TRICHLORIDE │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 26│ │ │ │ 6．12│28121049│三氟化氯 │ CHLORINE TRIFLUORIDE │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 27│ │ │ │ 6．13│28129000│三氟化硼 │ BORON TRIFLUORlDE │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 28│ │ │ │ 6．14│28121049│六氟化硫 │ SULFUR HEXAFLUORIDE │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 29│ │ │ │ 6．15│28129000│三氟化氮 │ NITROGEN TRlFLUORlDE │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 30│ │ │ │ 6．16│28141000│氨气 │ AMMONIA │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 31│ │ │ │ 6．17│28161900│六氟化钨 │ TUNGSTEN HEXAFLUORIDE │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 32│ │ │ │ 6．18│38249090│硅烷氦气混合气体 │ SILANE／HELlUM │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 33│ │ │ │ 6．19│28500000│(甲)硅烷 │ MONOSILANE │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 34│ │ │ │ 6．20│38249090│(甲)硅烷氮气混合气体 │ MONOSILANE／NITROGEN │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 35│ │ │ │ 6．21│29033090│ 三氟甲烷 │ TRIFLUOROMETHANE │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 36│ │ │ │ 6．22│29033090│ 四氟化碳 │ TETRAFLUOROMETHANE │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 37│ │ │ │ 6．23│29033090│ 六氟化二碳 │ HEXAFLUOROETHANE │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 38│ │ │ │ 6．24│29033090│ 二氟甲烷 │ DIFLUORO METHANE │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 39│ │ │ │ 6．25│29035900│ 八氟环丁烷(八氟化四碳) │ OCTA—FLUOROCYCLOBUTANE(C4F8)│├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 40│ │ │ │ 6．26│29035900│ 八氟环戊烯(八氟化五碳，八氟环戊│ OCTA—FLUOROCYCLOPENTEN(C5F8)││ │ │ │ │ │ │ 烷) │ │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 41│ │ │ │ 6．27│38249090│ 氪氖混合气体 │ KRYPION／NEON │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 42│ │ │ │ 6．28│38249090│ 氪氟氖混合气 │ KRYPTON／F2／NEON │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 43│ │ │ │ 6．29│38249090│ 氟氖混合气 │ F2／Ne │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 44│ │ │ │ 6．30│38249090│ 氧气氩气混合气体 │ OXYGEN／ARGON │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 45│ │ │ │ 6．31│38249090│ 磷烷氦气混合气体 │ PHOSPINE／HELIUM │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 46│ │ │ │ 6．32│38249090│ 甲烷氩气混合气体 │ METHANE／ARGON │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 47│ │ │ │ 6．33│28041000│ 氢气 │ Hydrogen │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 48│ │ │ │ 6．34│28044000│ 液氧 │ │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 49│ │ │ │ 6．35│38249090│ 氯化氢氮气混合气体 │ │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 50│ │ │ │ 6．36│28499090│ 六碳化铬 │ CrC6 │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 51│ │ │ │ 6．37│38249090│ 蚀刻化学品 │ CR—3ST CHROMIUM ETCHANT │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 52│ │ │ │ 6．38│29033090│ 六氟化二碳 │ C2F4 │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 53│ │ │ │ 6．39│38249090│ 氦／氢混合气 │ He／H2 │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 54│ │ │ │ 6．40│38249090│ 磷化氢／氢气 │ PH3／H2 │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 55│ │ │ │ 6．41│38249090│ 磷化氢／氦气 │ PH3／He │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 56│ │ │ │ 6．42│38249090│ 硅甲烷／磷化氢混合气体 │ PH3／SiH4 │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 57│ │ │ │ 6．43│28121049│ 六氯化硅 │ Si2C16 │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 58│ │ │ │ 6．44│28500000│ 六氢化硅 │ Si2H6 │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 59│ │ │ │ 6．45│29310000│ 三甲基硅烷 │ SiH(CH3)3 │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 60│ │ │ │ 6．46│38249090│ 四氢化硅／氦气 │ SiH4／HE2 │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 61│ │ │ │ 6．47│38249090│ 乙硼烷／氮气混合气体 │ Diborane／Nitrogen(B2H6／N2)│├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 62│ │ │ │ 6．48│38249090│ 氟／氮气混合气体 │ Flourine／Nitrogen │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 63│ │ │ │ 6．49│38249090│ 氦气／氮气混合气体 │ Helium／Nitrogen │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 64│ │ │ │ 6．50│28061000│ 氯化氢 │ Hydrogen Chloride │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 65│ │ │ │ 6．51│28121049│ 四氟化硅 │ Silion ││ │ │ │ │ │ │ │ Tetrafiuoride(SiF4) │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 66│ │ │ │ 6．52│28480000│ 磷化氢 │ Phosphine │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 67│ │ │ │ 6．53│28061000│ 氯化氢 │ Halocarbon │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 68│ │ │ │ 6．54│38249090│ 高纯度砷烷／氢气 │ ASH3／H2 │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 69│ │ │ │ 6．55│38249090│ 乙硼烷／氦气 │ B2H6／He │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 70│ │ │ │ 6．56│28129000│ 高纯度氟化硼 │ BF3 │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 71│ │ │ │ 6．57│28500000│ 砷化氢 │ Arsine │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 72│ │ │ │ 6.58 │38249090│ 氢气氮气混合气 │ H2／N2 │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 73│ │ │ │ 6.59 │38249090│ 磷化氢硅烷混合气 │ PH3／SiH4 │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 74│ │ │ │ 6.60 │29033090│ 六氟乙烷 │ C2F6 │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 75│ │ │ │ 6．61│29033090│ 四氟乙烷 │ CF4 │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 76│ │ │ │ 6．62│29033090│ 氟甲烷 │ CH3F │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 77│ │ │ │ 6．63│28111100│ 氟化氢 │ HF │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 78│ │ │ │ 6．64│28500000│ 氢化砷 │ ASH3 │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 79│ │ │ │ 6．65│28129000│ 氟化硼 │ BF3 │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 80│ │ │ │ 6．66│28261990│ 氟化锗 │ GeF4 │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 81│ │ │ │ 6．67│38249090│ 氧气氦气(氦气氧气)混合气体 │ O2／He │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 82│ │ │ │ 6．68│38249090│ 磷烷氮气混合气 │ PH3／N2 │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 83│ │ │ │ 6．69│38249090│ 氧气氮气混合气体 │ 02／N2 │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 84│ │ │ │ 6．70│28112900│ 一氧化氮 │ NO │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 85│ │ │ │ 6．71│38249090│ 硅烷氩气混合气 │ SiH4， N5(20％)／Ar │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 86│ │ │ │ 6．72│38249090│ 乙硼烷氢气混合气 │ B2H6／H2 │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 87│ │ │ │ 6．73│28510090│ 二氯二氢硅 │ │├──┤ ├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ │ │光刻工艺│ 显影液 │ 7．01│37079090│ 显像液，显影液(光刻显像剂) │Developer,Tetramethyl Ammonium││ 88│ │用化学品│ │ │ │ │Hydroxide Solution， ││ │ │ │ │ │ │ │(Developer Series) │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 89│ │ │光刻胶 │ 7．02│37071000│ 光刻胶 │ PhotoreSis │├──┤ │ │防反射薄膜生成液├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ │ │ │ │ 7．03│38249090│ 防反射薄膜生成液 │ CVD成膜用／防反射薄膜成膜用 ││ 90│ │ │ │ │ │ │／BARC DUV／BARC ││ │ │ │ │ │ │ │ ││ │ │ │ │ │ │ │ │├──┤ │ │ 稀释液 ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 91│ │ │ │ 7．04│38140000│ 稀释液(光刻显像稀释剂) │ PM Thinner(THINNER series) │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 92│ │ │ │ 7．05│38140000│ (净化)稀释液 │Cleaning Solution Thinner │├──┤ │ │ 聚酰亚胺原液 ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 93│ │ │ 增粘剂 │7．06 │39119000│聚酰亚胺原液(感光性聚酰亚胺) │Sumiresin Excel(HP／Photo ││ │ │ │ │ │ │ │sensitive)polymide ││ │ │ │ │ │ │ │ │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 94│ │ │ │7．07 │29310000│双(三甲基硅)胺 │HexamethyldisilazaneOAP │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 95│ │ │ │ 7．08│29141900│ 甲基戊基酮 │ Methyl Amyl Keton │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 96│ │ │ │ 7．09│29337900│ N—甲基—2—吡咯烷酮 │ N—Methyl—2—Pyrolidone │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 97│ │ │ │ 7．10│34059000│ 氧化铝研磨浆 │ Slurry │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 98│ │ │ │ 7．11│37013090│ 光刻工艺专用高等级感光胶片 │ │├──┤ ├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ │ │ 抛光剂│ 抛光剂 │ 8．01│34059000│ 研磨剂 │PLANERLITE,Semi—Sperse ││ 99│ │ │ │ │ │ │Aqueous ││ │ │ │ │ │ │ │ Dispersions,DPPASTE,Aqueous ││ │ │ │ │ │ │ │ Dispersions／PLANERLITE │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 100│ │ │ │ 8．02│34029000│ 用于化学机械研磨(CMP)表面活性 │ CMP SURFACTANT ││ │ │ │ │ │ │ 剂 │ │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 101│ │ │ │ 8．03│34059000│ CMP研磨粒子 │ CMPabstrasive particle │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 102│ │ │ │ 8．04│34059000│ 二氧化铈研磨剂 │ SLURRY HS—DLS │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 103│ │ │ │ 8．05│32074000│ 钝化玻璃粉 │ │├──┤ ├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 104│ │ 掺杂源│ 固态掺杂源 │ 9．01│28047090│(高纯度)红磷 │High Purity Red Phosphorus │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 105│ │ │ 气态掺杂源 │9．02 │28048000│ (高纯度金属)砷 │Arsenic Metal │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 106│ │ │ 液态掺杂源 │9．03 │28129000│硼源 │ │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 107│ │ │ │9．04 │38249090│锑扩散乳胶源 │ │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 108│ │ │ │9．05 │28258000│三氧化二锑 │ │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 109│ │ │ │9．06 │28121020│磷酰氯(二氯氧磷) │Phosphorus Oxychloride │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 110│ │ │ │9．07 │28273990│高纯度三氯化铟 │INDIUM TRICHLORIDE │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 111│ │ │ │9．08 │28261900│四氟化锗 │GeF4 │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 112│ │ │ │9．09 │28261900│三氟化铟 │InF3 │├──┤ ├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 113│ │刻蚀液 │氟系刻蚀液 │10．01│38249090│氢氟酸缓冲液／氢氟酸混合液 │Buffered Hydrogen Fluoride ││ │ │ │ │ │ │ │ │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 114│ │ │剥离液 │10．02│38249090│氢氟酸硝酸混合液 │FilmEtchPoly │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 115│ │ │磷酸 │10．03│28111100│氢氟酸 │FlydrofluoricAcid(HF) │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 116│ │ │ │10．04│38249090│剥离液 │Resist Strip,IC461 │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 117│ │ │ │10．05│38249090│氧化物刻蚀缓冲剂 │BUFFERED OXIDE ETCH │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 118│ │ │ │10．06│38249090│氟化氢氟化氨混合液 │BOE ETCH │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 119│ │ │ │10．07│29053100│乙二醇 │ETHYLENE GLYCOL │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 120│ │ │ │10．08│38249090│乙二醇+氟化胺 │EG+NH4F │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 121│ │ │ │10．09│29310000│六甲基乙硅烷 │HMDS／HD POLYMIDE │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 122│ │ │ │10．10│38249090│铝刻蚀(液)／M2混合酸 │DAE DEFRECKLING ALUMIMUN ││ │ │ │ │ │ │ │ETCH／M2 Acid／A1 Etch │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 123│ │ │ │10．11│37071000│ 感光乳液 │ │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 124│ │ │ │10．12│38249090│ 酸碱度调整添加剂 │ ACID & Alkali PH adjuster ││ │ │ │ │ │ │ │additives │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ │ │ │ │10．13│34021900│ BTA／EDA化学品 │ BTA，EP GRADE 1HBENJO ││ 125│ │ │ │ │ │ │TRIAJOLE ││ │ │ │ │ │ │ │ 100G／BT │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 126│ │ │ │10．14│28332500│ 含水硫酸铜 │ CuS04．5H20 │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 127│ │ │ │10．15│28273500│ 氯化镍 │ NICKLE CHLORIDE │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 128│ │ │ │10．16│28309090│ 硫化镍 │ NICKELSULFATE │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 129│ │ │ │10．17│38249090│ 无尘室用原位氧化刻蚀剂 │NOE(NATIVE OXIDE ETCHlNG) │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 130│ │ │ │10．18│29171110│ 草酸 │ CIREX FOR CMP／COOH ││ │ │ │ │ │ │ │OXALlC ACID │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 131│ │ │ │10．19│28061000│ 盐酸 │ HYDROCHLORIC ACID(HCl) │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 132│ │ │ │10．20│28261000│ 氟酸铵 │ AMMONIUM FLUORIDE 40％ │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 133│ │ │ │10．21│29041000│ 甲烷磺酸(甲基磺酸) │ METHANESULFONIC ACID │├──┤ ├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 134│ │ 清洗液│ 乙醇 │11．01│22071000│ 乙醇(纯度等级高于PPM) │ Ethanol │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 135│ │ │ 硫酸 │11．02│28070000│ 硫酸(纯度等级高于PPM) │ Sulfuric Acid ││ │ │ │ │ │.10 │ │ │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 136│ │ │ 硝酸 │11．03│28080000│ 硝酸(纯度等级高于PPM) │ Nitric Acid │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 137│ │ │ 磷酸 │11．04│28092010│ 磷酸(纯度等级局于PPM) │ Phosphoric Acid │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 138│ │ │ 氨水 │11．05│28142000│ 氨水(纯度等级高于PPM) │ Super Pure ││ │ │ │ │ │ │ │ Ammonium Hydroxide Elm ││ │ │ │ │ │ │ │／NH3．H20(AR) │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ │ │ │ 过氧化氢 │11．06│28470000│ 过氧化氢(双氧水)(纯度等级高于 │ Hydrogen Peroxide ││ 139│ │ │ │ │ │ │ ││ │ │ │ │ │ │ PPM) │ │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 140│ │ │ 异丙醇 │11．07│29051220│ 异丙醇(纯度等级高于PPM) │ Isopropy Alcohl │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 141│ │ │ 盐酸 │11．08│28152000│ 氢氧化钾(纯度等级高于PPM) │POTASSIUM HYDROXIDE SOLUTION│├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 142│ │ │ 高纯度混合酸 │11．09│28261900│ 氟化钾(纯度等级高于PPM) │ POTASSIUM FLUORIDE KF │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ │ │ │ │11．10│38249090│ 混合酸(1．M2 etching即硝酸+醋酸│ ││ 143│ │ │ │ │ │ +氢氟酸；2．硝酸+醋酸+磷酸：3．│ ││ │ │ │ │ │ │ 氢氟酸+氟化铵)(纯度等级高于 │ ││ │ │ │ │ │ │ PPM) │ │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 144│ │ │ │11．11│28142000│ 氢氧化铵(纯度等级高于PPM) │ AMMONIUM HYDROXIDE PPB │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 145│ │ │ │11．12│38220090│ 钼酸盐试剂(纯度等级高于PPM) │ MOLYBDATE 3 REAGENT │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 146│ │ │ │11．13│29051990│ 异丙基乙醇(纯度等级高于PPM) │ ISOPROPYL ALCOHOL PPB │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 147│ │ │ │11．14│34029000│ 清洗溶液(磺酸铵溶液)(纯度等级│ WRS—200(surfactant) ││ │ │ │ │ │ │ 高于PPM) │ │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ │ │ │ │11．15│29189000│ 晶片清洗溶剂(1一甲氧基丙基乙酸│ RINSE FOR POLYMIDE ││ 148│ │ │ │ │ │ 酯)(纯度等级高于PPM) │ │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 149│ │ │ │11．16│38249090│ 光刻胶去除剂(纯度等级高于PPM)│ STRIPPER FOR PHOTORESlST│├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 150│ │ │ │11．17│29189000│ 甲氧基乙酸丙脂(纯度等级高于 │ RER 600 PPB ││ │ │ │ │ │ │ PPM) │ │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 151│ │ │ │11．18│29141100│ 丙酮(纯度等级高于PPM) │ Acetone │├──┤ ├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 152│ │ 电镀液│ 电镀原液 │12．01│11081900│ 可溶性淀粉 │ SOLUABLE STARCH │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 153│ │ │ 添加剂 │12．02│28012000│ 碘 │ IODINE │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 154│ │ │ 退锡剂 │12．03│38220090│ 标准硼溶液 │ BORON STANDARD SOLUTION │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 155│ │ │ 其它调整剂 │12．04│38249090│ 变色硅胶 │ SILICON GEL │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 156│ │ │ 电镀分析试剂 │12．05│29041000│ 无氟酸／无氟铅／无氟锡 │ NF ACID／NF LEAD／NF TIN │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 157│ │ │ │12．06│28080000│ 发烟硝酸 │ FUMING NITRIC │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 158│ │ │ │12．07│38249090│ HC酸液 │ SOLDERON ACID HC │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 159│ │ │ │12．08│28151100│ 氢氧化钠 │ NAOH │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 160│ │ │ │12．09│38249090│ RD浓液 │ SOLDERON RD │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 161│ │ │ │12．10│38220090│ 铅标准溶液 │ STANDARD LEAD CONC 100ML／B│├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 162│ │ │ │12．11│38249090│ 缓冲氧化物 │ BUFFERED OXIDE ETCHANT ││ │ │ │ │ │ │ │ 10：1 W／OHS │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 163│ │ │ │12．12│28261100│ 氟化氨 │ NU4F │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 164│ │ │ │12．13│28276000│ 碘化钾 │ POTASSIUM IODIDE 500ML／BTL│├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 165│ │ │ │12．14│25010020│ 氯化钠(精制盐) │ NACL 50KG／BTL(AR) │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 166│ │ │ │12．15│28323000│ 硫代硫酸钠 │ Na2S203 500ML／BTL │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 167│ │ │ │12．16│38220090│ 铜标准溶液 │STANDARD CUPPER ││ │ │ │ │ │ │ │CONC 100ML／BTL │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 168│ │ │ │12．17│38220090│ 铁标准溶液 │ SODIUM IR ON CON ││ │ │ │ │ │ │ │ E 100ML／BTL │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 169│ │ │ │12．18│28362000│ 无水碳酸钠 │ SODIUM CDRBONDTE 500G／BTL│├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 170│ │ │ │12．19│29054500│ 无水甘油 │ GLYCERINE │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 171│ │ │ │12．20│29072210│ 对苯二酚 │ HYDROQUINONE │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 172│ │ │ │12．21│38220090│ 酚酞试剂 │PHENOLPHAHALEIN(5．5／25G)50ML││ │ │ │ │ │ │ │／BTL │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 173│ │ │ │12．22│38249090│ 退锡剂 │ TL—9010 │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 174│ │ │ │12．23│29152190│ 乙酸 │ CH3COOH │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 175│ │ │ │12．24│29041000│ 甲磺酸 │ NF ACID 30KG／CAN │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 176│ │ │ │12．25│38220090│ 硬度试剂/硬度滴定液 │ HARDRESS REAGENT／TITRART ││ │ │ │ │ │ │ │ SOLUTIONHARDRESS │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 177│ │ │ │12．26│38249090│ DPD余氯试剂／氟化电子回流液 │ DPD TOTAL CALORTNE REAGENT │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 178│ │ │ │12．27│34039900│ 切割冷却液 │ CUTTlNG FLUlD │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 179│ │ │ │12．28│34029000│ 表面活性剂制品 │ MODIFIER／72BC ││ │ │ │ │ │ │ │ ADDITIVE／BUFFERED ETCH │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 180│ │ │ │12．29│38249090│ NaOH/Na 3PO4／Na2CO3混合液 │ ENBOND CA—S │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 181│ │ │ │12．30│38249090│ PH调节剂 │ PH ADJUSTOR │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 182│ │ │ │12．31│83119000│ 锡铅球(锡占80％) │ SOLDER │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 183│ │ │ │12．32│38109000│ 助焊剂 │ ALPHAR TYPE 100# │├──┤ ├────┼────────┼───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 184│ │成膜专用│绝缘膜生成剂无机│13．01│38249090│ 绝缘膜生成剂 │ Sumika Film ││ │ │ 化学品│ 硅成膜剂 │ │ │ │ │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 185│ │ │ │13．02│28273990│ 四氯化钛 │ TiCl4 │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 186│ │ │ │13．03│29190000│ 磷酸三乙酯 │ TEPO │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 187│ │ │ │13．04│29190000│ 磷酸三甲酯 │ Trimethyl Phosphate │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 188│ │ │ │13．05│29190000│ 硼酸三乙酯 │ TEB │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 189│ │ │ │13．06│29190000│ 硼酸三甲酯 │ Trimethyl Borate │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 190│ │ │ │13．07│29310000│ 四乙氧基硅烷+氦气(氦气为保护 │ Tetraethoxysilane TEOS ││ │ │ │ │ │ │ 气) │ │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 191│ │ │ │13．08│29310000│ 四乙氧基硅烷+氮气(氮气为保护 │ ││ │ │ │ │ │ │ 气) │ │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 192│ │ │ │13．09│29153300│ 醋酸丁酯 │ Butyl Acetate │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 193│ │ │ │13．10│29181100│ 乳酸乙酯 │ 乳酸Ethyl │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 194│ │ │ │13．11│29310000│ 十二甲基硅醚 │ DODECAMETHYLCYCLOHEXASILOXA ││ │ │ │ │ │ │ │ NE │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 195│ │ │ │13．12│29310000│ 十甲基硅醚 │ DECAMETHYLCYCLOPENTASILOXANE│├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 196│ │ │ │13．13│29310000│ 四甲基硅醚 │ HEXAMETHYLDISILOXANE │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 197│ │ │ │13．14│29310000│ 六甲基硅醚 │ HEXAMETHYLCYCLOTRISILOXANE │├──┤ │ │ ├───┼────┼────────────────┼───────────────┤│ 198│ │ │ │13．15│29310000│ 八甲基硅醚 │ OCTAMETHYLCYCLOTETRASILOXANE│├──┤